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Pacote de análise de dados de microlithografia capaz de ajustar conjuntos de dados do tipo Bossung, também conhecidos como matrizes de exposição ao foco. Palavras-chave: Litografia, Fotolithografia, Fotoresist, Janela do Processo, Dimensão Crítica, CD, Bossung, FEM

história da versão

  • Versão N/A postado em 2011-08-11
    Várias correções e atualizações
  • Versão N/A postado em 2011-08-11

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